国内5nm激光光刻技术有望打破西方封锁..

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国内5nm激光光刻技术有望打破西方封锁..

例如,华为的通信设备和5G网络技术已经达到了世界领先水平,可以自己计划好的功能芯片,这足以介绍华为获得了强大的优势。

但就芯片生产而言,不仅仅是华为。 所有东方强国仍然落后于西方。 因此,美国必须停止在芯片生产平台上。 例如,光刻机是芯片生产的焦点,因为它们1号站娛乐平台用户登录被其他人控制,这足以让华为感到无助。 目前,台积电光刻机的入口取决于荷兰的ASML,而高端光刻机的光源系统原产于美国。

但当每一个片面都对华为的一天感到悲伤时,中国科学院发布了一条令人兴奋的信息。 据媒体报道,中国科学院古素研究所公布了一种新1号站娛乐平台用户登录型5nm高精度激光光刻加工技术。 该技术起源于Gusunami技术和纳米仿生研究所。 这标志着国内5nm激光光刻技术的巨大发展。 专家们还说,这一次中国科学院做出了巨大的贡献。

目前,国内半导体工业仍然无法与ASML光刻机脱节。 如果这项技术突破了这个炙热的东方大国,它将使它们的能量突破ASML光刻机的控制。 纳米激光光刻技术的张子阳团队已经开辟了一个新的三层堆叠膜布局,并通过双激光束重复。 能量密度及其波长可以确定线的宽度可以切割到5纳米。 目前的ASML光刻技术是基于EUV极紫外线光刻技术,这是一种完全不同于ASML的新技术方法。

然而,该技术仅突破了实际软件的测试阶段,大规模生产并不是一个简短的过程。 目前,ASML光刻机仍处于控制位置,这也是美国行使其影响停止我们公司增长的。 然而,这1号站娛乐平台用户登录项技术的突破证实了研究是可行的。 我们可以利用这项技术,使美国开放光刻机,从而大大减轻对华为的压力。

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